Spectrométrie de masse d'ions secondaires : SIMS et ToF-SIMS - Principes et appareillages - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Chapitre D'ouvrage Année : 2014

Spectrométrie de masse d'ions secondaires : SIMS et ToF-SIMS - Principes et appareillages

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Résumé

Cet article est consacré à l’analyse des matériaux par spectrométrie de masse d’ions secondaires. Il présente d’abord les principes de la méthode, basée sur la mesure par spectrométrie de masse de la composition de la matière pulvérisée par un faisceau d’ions, d’amas ionisés ou de particules d’énergie modérée (inférieure à 20 keV). Sont décrits ensuite les différents appareillages avec plusieurs types de sources d’ions primaires et les principaux types de spectromètres de masse : par déflection des ions secondaires dans un secteur magnétique, par tri de ces ions dans un quadripôle ou par mesure de leur temps de vol.

Mots clés

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01174749 , version 1 (09-07-2015)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01174749 , version 1

Citer

Evelyne Darque-Ceretti, Marc Aucouturier, Patrice Lehuédé. Spectrométrie de masse d'ions secondaires : SIMS et ToF-SIMS - Principes et appareillages. Techniques de l'Ingénieur, Editions T.I., P2618 - 22 p., 2014. ⟨hal-01174749⟩
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