Recent progresses in the development of advanced chemical reactors using plasma-based processes

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Communication dans un congrès
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Contributeur : Magalie Prudon <>
Soumis le : mardi 15 janvier 2019 - 10:37:28
Dernière modification le : jeudi 17 janvier 2019 - 01:26:11

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  • HAL Id : hal-01981562, version 1

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François Cauneau. Recent progresses in the development of advanced chemical reactors using plasma-based processes. 3rd International Academic Development Workshop of SJTU ParisTech, Shanghai Jiao Tong University, May 2018, shangai, China. ⟨hal-01981562⟩

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